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广东春雷环境工业废水处理公司解析半导体工业废水处理

文章出处:春雷网人气:-发表时间:2021-06-07 17:41:00【

半导体工业废水处理简述:

 

  半导体生产所产生的废水属于工业废水,现阶段在我国国内,在电子产品应用范围不断扩大的令天,半导体材料对在我国的发展趋势实际意义重特大。半导体所涉及到的领域许多,按照原材料和加工工艺的差异,所产生的废水特点也差异,但都具备排水量大、所造成的环境污染大等特点,在严重威胁生态环境保护身心健康的同时,也牵制了其发展趋势。

 

废水处理设备

 

  按半导体材料生产制造废水的特征,将半导体生产废水分成三大类,其来源于主要是生产过程中产生的氟化物废水、有机化学废水和金属离子废水。

 

  1、含氟废水:废水关键来源于半导体材料生产制造工艺流程的浸蚀段,因为生产过程中使用了很多的盐酸、氟化铵等实验试剂,空气污染物浓度值较高,如氯化物、高锰酸盐指数等,废水一般呈强偏碱;

 

  2、有机化学废水:其空气污染物主要是一些基本空气污染物,生产制造浓度值与生产工艺流程和实际操作管理能力相关,COD一般在200~2500g/L上下;3、金属离子废水:半导体材料废水中金属离子类型多种,关键有铜、镍、锡、铅、银等,一般在几十mg/L上下。

 

半导体工业废水处理难点分析:

 

  含氟废水的浓度较高且处理存在一定的难度系数,一般的化学沉淀法难以彻底除去废水中氟离子,在出水水质需求较高时,应选用多种组成加工工艺进行处理。尽管半导体材料有机化学废水的浓度值不容易很高,可是水质差别非常大,必须按照分析检测結果来明确水质特点。对不同类型的浓度较高的金属离子废水,应分别采集和处理,假如废水中带有多种金属离子,则其含水量会提升。

 

半导体生产废水技术工艺:

 

  氟化物废水一般选用有机化学沉淀法,加药钙质和废水中氟离子产生CaF2,另配以助凝剂輔助可去除废水中氟离子。出水出水率规定高时,可与生物化学法、吸咐法等协同应用。一般选用经济发展高效率的生物化学处理方式处理有机化学废水,如分别好氧法或与氧气不足厌氧发酵法融合处理,对废水中COD、高锰酸盐指数、高锰酸盐指数等基本空气污染物的除去实际效果十分不错。针对金属离子废水,则必须按照废水的差异类型进行选用,常见的有化学沉淀法,吸咐法,离子交换等。半导体材料工业化生产对水的需求非常大,对水质要求不高,为了更好地节约产品成本,春雷环境污水处理公司建议选用废水回用处理,可以大大降低企业用水成本。

 

废水处理环保工程公司

 

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